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測試服務(wù)

測試服務(wù)

Testing service

TEM(透射電子顯微鏡)
應用:
透射電子顯微鏡在材料科學(xué) 、生物學(xué)上應用較多。由于電子易散射或被物體吸收,故穿透力低,樣品的密度、厚度等都會(huì )影響到最后的成像質(zhì)量,必須制備更薄的超薄切片,通常為50~100nm。所以用透射電子顯微鏡觀(guān)察時(shí)的樣品需要處理得很薄。常用的方法有:超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對于液體樣品,通常是掛預處理過(guò)的銅網(wǎng)上進(jìn)行觀(guān)察。
樣品要求:
粉末樣品基本要求:
(1)單顆粉末尺寸最好小于1μm;
(2)無(wú)磁性;
(3)以無(wú)機成分為主,否則會(huì )造成電鏡嚴重的污染,高壓跳掉,甚至擊壞高壓槍?zhuān)?br /> 塊狀樣品基本要求:
(1)需要電解減薄或離子減薄,獲得幾十納米的薄區才能觀(guān)察;
(2)如晶粒尺寸小于1μm,也可用破碎等機械方法制成粉末來(lái)觀(guān)察;
(3)無(wú)磁性;
用途
X射線(xiàn)能譜在透射掃描電鏡中與掃描功能配合可得元素分布圖。應用電子通道增強效應還可以測定雜質(zhì)元素或合金元素在有序化合物中占據亞點(diǎn)陣位置的百分數。
優(yōu)點(diǎn)
(1)能譜儀探測X射線(xiàn)的效率高;
(2)在同一時(shí)間對分析點(diǎn)內所有元素X射線(xiàn)光子的能量進(jìn)行測定和計數,在幾分鐘內可得到定性分析結果,而波譜儀只能逐個(gè)測量每種元素特征波長(cháng);
(3)結構簡(jiǎn)單,穩定性和重現性都很好;
(4)不必聚焦,對樣品表面無(wú)特殊要求,適于粗糙表面分析。

快速退火工藝(一)
快速退火工藝(一)

2023-11-17

快速熱退火是用各種熱輻照源,直接照射在樣品表面上,迅速將樣品加熱至700~1200℃左右在幾秒~幾十秒的時(shí)間內完成退火。它與常規熱退火相比,有下列優(yōu)點(diǎn)...

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離子鍍膜
離子鍍膜

2023-10-16

離子鍍是一種在真空環(huán)境中,利用高壓氣體放電將鍍料蒸發(fā)后離子化,沉積在產(chǎn)品表面形成一層鍍膜的工藝。  離子鍍工藝出現于上世紀70年代,是一種...

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常規ICP刻蝕的操作流程
常規ICP刻蝕的操作流程

2023-10-13

(一)裝片:1,在Pump 界面點(diǎn)擊左邊Pump 圖標下Stop,切換至Vent ,120s 后打開(kāi) Loadlock;2,涂抹真空油脂:根據片子尺寸大小,在托盤(pán)上涂抹...

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分子束外延的技術(shù)難點(diǎn)
分子束外延的技術(shù)難點(diǎn)

2023-10-09

分子束外延是50年代用真空蒸發(fā)技術(shù)制備半導體薄膜材料發(fā)展而來(lái)的。隨著(zhù)超高真空技術(shù)的發(fā)展而日趨完善,由于分子束外延技術(shù)的發(fā)展開(kāi)拓了一系列嶄新的超...

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