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MEMS加工

為成就您的產(chǎn)品，而努力

Work hard to make your product

鍍膜
  • 低壓化學(xué)氣相沉積
    SiNx，片內均勻性：<±5%
  • 等離子增強 化學(xué)氣相沉積
    SiO?，SiNx，a-Si(B,P,Ge摻雜)
  • 感應耦合 化學(xué)氣相沉積
    SiO?，SiNx，SiC(低溫、低應力鍍膜)
  • 原子層沉積
    Al2O3、HfO2、AlN
  • 光學(xué)鍍膜
    SiO2、MgF2、ITO、TiO2、Ta2O5、ZrO2、Al2O3
  • 濺射沉積
    Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW90、Pd、Pt、Zn、Mo、W、Ta、Ru、Si、SiC、NiCr20、Nb
  • 電子束蒸發(fā)
    Ti，Al，Ni，Ag，Cr，Sn，Pt，AuGe
  • 熱蒸發(fā)
    Sn，AuSn，Ag，Au

案例展示


                        

                      高密度金屬Al厚膜                                金屬膜沉積                       20nm HfO2  onto Si trenches                   Au Lift-off Process

                                                                                                                                    （AR=25）








快速退火工藝（一）
快速退火工藝（一）

2023-11-17

快速熱退火是用各種熱輻照源，直接照射在樣品表面上，迅速將樣品加熱至700~1200℃左右在幾秒~幾十秒的時(shí)間內完成退火。它與常規熱退火相比，有下列優(yōu)點(diǎn)...

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離子鍍膜
離子鍍膜

2023-10-16

離子鍍是一種在真空環(huán)境中，利用高壓氣體放電將鍍料蒸發(fā)后離子化，沉積在產(chǎn)品表面形成一層鍍膜的工藝。  離子鍍工藝出現于上世紀70年代，是一種...

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常規ICP刻蝕的操作流程
常規ICP刻蝕的操作流程

2023-10-13

（一）裝片：1，在Pump 界面點(diǎn)擊左邊Pump 圖標下Stop，切換至Vent ，120s 后打開(kāi) Loadlock；2，涂抹真空油脂：根據片子尺寸大小，在托盤(pán)上涂抹...

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分子束外延的技術(shù)難點(diǎn)
分子束外延的技術(shù)難點(diǎn)

2023-10-09

分子束外延是50年代用真空蒸發(fā)技術(shù)制備半導體薄膜材料發(fā)展而來(lái)的。隨著(zhù)超高真空技術(shù)的發(fā)展而日趨完善，由于分子束外延技術(shù)的發(fā)展開(kāi)拓了一系列嶄新的超...

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