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蘇打掩膜版
蘇打玻璃常用在STN-LCD、TN-LCD、FED、EL行業(yè)專(zhuān)用光學(xué)掩模版基材
類(lèi)別 蘇打掩膜版
常規尺寸(mm) 3"X3", 4"X4", 5"X5", 6"X6", 7"X7", 9"X9", 12"X12", 14"X17", 16"X18",20”x24”
450mm×550mm,400mm×400mm, 700mmX800mm
最大尺寸(mm) 850*1200
特殊尺寸(mm) 按客戶(hù)要求定做（XY=20~609mm）
基材厚度(mm) 1.6  2.3　3.0  4.8   7.8   8.0
鉻膜類(lèi)型 　　　ARC Anti-Reflective Chrome
熱性能（℃） 710℃
溫度收縮系數 8.1*10ˉ6(20~200 ℃)
透過(guò)率 >90%(T=2.3mm；l=400nm）
折射率 1.52
垂直入射反射率 約8%（片面反射約4%）
耐酸性能 H2SO4(80℃,99%) 0.1?/min
耐堿性能 NaOH（Wt2%）0.8?/min
表面平整度 <20um（400*400*3.0mm)

小尺寸鉻版（≤9英寸）
類(lèi)別 超高精度/高精度（228.6mm*228.6mm） 中精度/低精度（228.6mm*228.6mm）
線(xiàn)縫尺寸
（μm） 		線(xiàn)縫精度
（μm） 		垂直度
（urad） 		總長(cháng)精度
（μm） 		位置精度
（μm） 		線(xiàn)縫尺寸
（μm） 		線(xiàn)縫精度
（μm） 		垂直度
（urad） 		總長(cháng)精度
（μm） 		位置精度
（μm）
蘇打 ≥1.5 ≤0.2 ≤0.5 <0.5 ≤0.2 ≥5 ≤0.5 ≤1 ≤1 ≤0.5

大尺寸鉻版（>9英寸）
類(lèi)別 超高精度/高精度（400mm*450mm） 中精度/低精度（400mm*450mm）
線(xiàn)縫尺寸
（μm） 		線(xiàn)縫精度
（μm） 		垂直度
（urad） 		總長(cháng)精度
（μm） 		位置精度
（μm） 		線(xiàn)縫尺寸
（μm） 		線(xiàn)縫精度
（μm） 		垂直度
（urad） 		總長(cháng)精度
（μm） 		位置精度
（μm）
蘇打 ≥3 ≤0.75 ≤0.5 ≤1 ≤0.75 >6 ≤1 ≤1.5 ≤2 ≤1
快速退火工藝（一）
快速退火工藝（一）

2023-11-17

快速熱退火是用各種熱輻照源，直接照射在樣品表面上，迅速將樣品加熱至700~1200℃左右在幾秒~幾十秒的時(shí)間內完成退火。它與常規熱退火相比，有下列優(yōu)點(diǎn)...

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離子鍍膜
離子鍍膜

2023-10-16

離子鍍是一種在真空環(huán)境中，利用高壓氣體放電將鍍料蒸發(fā)后離子化，沉積在產(chǎn)品表面形成一層鍍膜的工藝。  離子鍍工藝出現于上世紀70年代，是一種...

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常規ICP刻蝕的操作流程
常規ICP刻蝕的操作流程

2023-10-13

（一）裝片：1，在Pump 界面點(diǎn)擊左邊Pump 圖標下Stop，切換至Vent ，120s 后打開(kāi) Loadlock；2，涂抹真空油脂：根據片子尺寸大小，在托盤(pán)上涂抹...

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分子束外延的技術(shù)難點(diǎn)
分子束外延的技術(shù)難點(diǎn)

2023-10-09

分子束外延是50年代用真空蒸發(fā)技術(shù)制備半導體薄膜材料發(fā)展而來(lái)的。隨著(zhù)超高真空技術(shù)的發(fā)展而日趨完善，由于分子束外延技術(shù)的發(fā)展開(kāi)拓了一系列嶄新的超...

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